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第155章 士气爆棚（第1页）

黑洞光刻机公司。

蒲伟才需要卫明帮忙加工的零件，主要跟光学镜头相关。

尤其是涂在光学镜头表面的那层反光膜材料，要求纯度达到8个九以上。

但国内相关的材料公司，只能做到4个九的纯度，还差四个量级。

为提高反光效率，卫明只能利用黑吸收杂质，提纯材料，使其纯度无限接近100。

但这样慢工出细活，一个一个的消除杂质分子，一也提纯不了多少。

后面科学家想到了一个巧妙办法，那就是把反光膜材料，溶于某种有机溶液中，大部分杂质则不能溶解，于是就把杂质析了出来，再加热特殊有机溶液，析出纯度更高的反光膜材料。

如此反复操作几次，反光膜材料的纯度，能提高11个九以上，要比国外材料还高出三个量级——这便是暴龙euv的能量利用率，为什么能高出三倍还多的原因。

不过特殊有机溶液经过多次的使用之后，其本身纯度会有所下降，进而影响反光膜材料的纯度，必须对特殊有机溶液进行提纯操作。

这就需要制作一种特殊的分子筛，孔径极，只允许有机溶液分子通过，其它分子一个都通过不了，纯度甚至达到理论层面的100。

故而要想解决掉反光膜纯度问题，卫明得制作一批有机溶液分子筛，利用黑钻出一个个孔。

由于分子筛孔的直径刚好在1纳米左右，以前卫明需要精准操控，一顶多打下100亿个孔。

但现在视界的范围刚好为1纳米，只要关闭引力半径，再闭着眼的疯狂打孔即可，短短十分钟便打下了1万亿个孔。

效率提升了万倍不止。

仅仅两个时，他就制造出了足够使用的分子筛。

高精尖领域做的很多事情其实就是如此。

需要数百种接近100纯度的化学材料。

需要数万个误差接近0的零件。

需要表面无限贴近某个数学公式的镜片曲率变化规律。

甚至冷却光刻机所用的水，也必须是没有任何杂质的100纯水，让光刻机的冷却性能，保持线性稳定，不受杂质影响。

以及某些子系统的工作环境，最好是没有一个空气分子存在的绝对真空……正好，能够吞噬一切的黑，可以创造出最接近真空的环境。

光源系统要用到的金属锡滴，也得保证它的纯度是100，这样就可以减少杂光的产生。

利用真空容器离心法，卫明帮忙弄到了100公斤的高纯度锡……这足够满足二十台光刻机的需求。

忙活了一整。

解决掉所有积压问题后。

时间已是晚上8点多。

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